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來源: 發(fā)布時間:2025-05-30

未固定至殼體的至少兩個邊緣e1和e2至殼體的中心線c顯示出兩個距離,其中邊緣e1至殼體的中心線具有距離d1并且第二邊緣e2至殼體的中心線具有距離d2,其中d1<d2。本發(fā)明的主要部分是,邊緣e1至區(qū)域a顯示出距離l1并且第二邊緣e2顯示出距離l2,其中l(wèi)2>×l1。通過引入帶護罩的引導葉片(其具有沿軸向旋流器方向投影的大至少25%的外弦長度),顆?;蛞旱尾豢梢员灰龑в谇芯€路徑上,而且還可以被同時朝向旋流器外壁引導。一旦顆粒或液滴積聚在那里,它們就不再被吸引至旋流器的內(nèi)渦流中的低壓??傊?,具有增大的軸向投影外弦長度的帶護罩的引導葉片使顆粒從靠近旋流器中軸線的位置朝向殼體壁吹送。通過葉片表面的連續(xù)傾斜來確保這一點。本發(fā)明對其中排出端口被布置成與入口開口相對的軸向旋流器特別地有益,因為這種布置不提供具有切向分量的進料。然而,本發(fā)明也可以用于改進切向旋流器的性能。而且,推薦的是,幾何形狀以至少四個邊緣(e1、e2、e3、e4)為特征。結(jié)果,擴大了每個引導葉片的總面積以及因此引導葉片的效果。推薦地,這四個邊緣中的兩個(即e3和e4)都被直接地或都被間接地或者一個被直接地且另一個被間接地固定。作為具體實施例,幾何形狀為梯形。多功能絮流片互惠互利哪家好,誠心推薦常州三千科技有限公司。連云港絮流片空氣凈化

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所述的銅條上面還有一層還具有點狀的凸起或紋路。進一步地講,所述的多道溝槽、點狀的凸起或紋路的深度或高度是—。進一步地講,所述的銅條上面周圍還有一周凸起梗。進一步地講,所述的瓷板上面具有凹槽,所述的銅條下面配合地固定在凹槽中。本實用新型的有益效果是:這樣的基板在形成半導體致冷件時具有使用方便的優(yōu)點;所述的銅條上面還具有多道溝槽、或點狀的凸起或紋路,還具有焊接更牢固的優(yōu)點;所述的多道溝槽、點狀的凸起或紋路的深度或高度是—,還具有設計更合理的優(yōu)點;所述的銅條上面周圍還有一周凸起梗,這樣還具有減少了焊錫焊接時的外溢的優(yōu)點。附圖說明圖1是本實用新型的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1中a—a方向的示意圖。圖3是圖2中b—b方向的示意圖。其中:1、瓷板2、銅條3、焊錫層4、焊錫膏5、氧化亞銅6、溝槽7、點狀的凸起8、凸起梗9、凹槽。具體實施方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步的描述。如圖1、2、3所示,一種具有導流片的半導體致冷件用基板,包括下面的瓷板1和瓷板上面固定的銅條2;其特征是:所述的銅條上面具有一層焊錫層3。本實用新型這樣設置,可以方便地將晶粒焊接在本基板上,具有使用方便的優(yōu)點。進一步地講。湖州凹凸單板絮流片定制自動化絮流片供應商家哪家好,誠心推薦常州三千科技有限公司。

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110)可以限定在諸如su-8的噴嘴基質(zhì)(圖1,116)中。因此,形成包括流體饋送孔(圖1,108)的噴嘴子組件(圖1,102)的陣列(框701)可以包括將穿透硅膜與su-8噴嘴基質(zhì)(圖1,116)結(jié)合??梢孕纬啥鄠€流體通道(圖1,104)(框702)。形成流體通道(圖1,104)(框702)可以包括轉(zhuǎn)移模制過程、材料沉積過程或材料燒蝕過程以及其他制造過程。利用在通道層(140)中形成的流體通道(圖1,104)以及在流體噴射層(101)中形成的噴嘴子組件(圖1,102),可以在中介層(150)中形成多個輸入端口(151)和輸出端口(152)(框703)。流體噴射層(101)、流體通道層(140)和中介層(150)可以耦接在一起或使用多個材料沉積或燒蝕步驟形成,以形成如圖1a至圖1c所繪出的流體噴射片(100)。本說明書和附圖描述了一種射流片,所述射流片包括流體通道層,流體通道層包括沿著流體噴射設備的長度限定的至少一個流體通道。射流片還包括耦接到流體通道層的中介層。中介層包括限定在中介層中的多個輸入端口,以將至少一個通道層射流地耦接到流體源,并且中介層包括限定在中介層中的多個輸出端口,以將至少一個通道層射流地耦接到流體源。使用這種流體噴射片,1)通過保持流體中的水濃度來降低噴嘴覆蓋的可能性,并減少或消除開蓋過程。

151)和輸出端口(152)的流體的宏觀循環(huán)的耦接。在一個示例中,可以使用多個內(nèi)部泵,用于使流體移動通過包括流體饋送孔(108)和噴射腔(110)的微觀循環(huán)通道以及相對較大的宏觀循環(huán)通道,所述宏觀循環(huán)通道諸如流體通道(104)、輸入端口(151)和輸出端口(152)。這些內(nèi)部泵可以采取循環(huán)泵的形式,所述循環(huán)泵是將流體移動通過流體噴射片(100)內(nèi)的通路、通道和其他分支的非噴射致動器的示例。循環(huán)泵可以是任何電阻設備、壓電設備或其他微射流泵設備。圖2是根據(jù)本文所述原理的示例的圖1a的流體噴射片(100)的分解圖。使用任何制造工藝將流體噴射層(101)耦接到流體通道層(140),以使限定在流體通道層(140)內(nèi)的流體通道(104)與流體噴射層(101)的多個流體噴射子組件(102)對準。中介層(150)與流體通道層(140)對準,使得限定在中介層(150)中的輸入端口(151)和輸出端口(152)與限定在流體通道層(140)內(nèi)的流體通道(104)對準。圖3是根據(jù)本文所述原理的示例的、耦接到載體基質(zhì)(300)的圖1a的流體噴射片(100)的等距視圖。載體基質(zhì)(300)可以包括限定在其中的多個載體開口(301),多個載體開口(301)與限定在中介層(150)中的輸入端口(151)和輸出端口(152)對準。進一步地,流體噴射片(100)和載體基質(zhì)。多功能絮流片設備哪家好,誠心推薦常州三千科技有限公司。

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并且另一個流體饋送孔(108)是從噴射腔(110)的出口,如在這些圖的投影視窗中所描繪的箭頭所表示的那樣。在一些示例中,流體饋送孔(108)可以是圓孔、具有圓角的方孔或其他類型的通路。流體噴射片(100)還可以包括限定在流體通道層(140)中的多個流體通道(104)。流體通道(104)沿著流體噴射設備的長度限定在流體通道層(140)內(nèi)。流體通道(104)可以形成以與流體饋送孔基質(zhì)(118)的背面射流地交互,并且將流體傳遞到限定在流體饋送孔基質(zhì)(118)內(nèi)的流體饋送孔(108)和從所述流體饋送孔中傳遞出。在一個示例中,每個流體通道(104)射流地耦接到流體饋送孔(108)陣列的多個流體饋送孔(108)。也就是說,流體進入流體通道(104)、經(jīng)過流體通道(104)、到達對應的流體饋送孔(108)、并且隨后離開流體饋送孔(108)并進入流體通道(104)以在相關聯(lián)的射流傳遞系統(tǒng)中與其他流體混合。在一些示例中,通過流體通道(104)的流體路徑垂直于通過流體饋送孔(108)的流,如箭頭所示。即,流體進入入口、經(jīng)過流體通道(104)、到達對應的流體饋送孔(108)、并且隨后離開出口,以與相關聯(lián)的射流傳遞系統(tǒng)中的其他流體混合。通過入口、流體通道(104)和出口的流由在圖1b和圖1c中的箭頭表示。流體通道。自動化絮流片用戶體驗哪家好,誠心推薦常州三千科技有限公司。連云港絮流片空氣凈化

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104)由任意數(shù)量的表面限定。例如,流體通道(104)的一個表面可以由流體饋送孔基質(zhì)(118)的膜部分限定,流體饋送孔(108)限定在所述流體饋送孔基質(zhì)(118)中。另一個表面可以至少部分地由中介層(150)限定。陣列的各單個流體通道(104)可以對應于特定行的流體饋送孔(108)和相應的噴射腔(110)。例如,如圖1a所示,流體噴射子組件(102)陣列可以呈行的形式設置,并且每個流體通道(104)可以與一行對準,使得以行的形式的流體噴射子組件(102)可以共享相同的流體通道(104)。盡管圖1a示出了流體噴射子組件(102)的各行呈直線,流體噴射子組件(102)的各行可以成角度、彎曲、呈人字形、交錯或以其他方式定向或布置。因此,在這些示例中,流體通道(104)可以類似地成角度、彎曲、呈人字形地或以其他方式定向或布置成與流體噴射子組件(102)的布置對準。在另一示例中,特定一行的流體饋送孔(108)可以對應于多個流體通道(104)。也就是說,這些行可以是直的,但是流體通道(104)可以成角度。盡管對流體噴射子組件(102)的每兩行做出了針對一個流體通道(104)的具體參考,但是流體噴射子組件(102)的更多或更少的行可以對應于單個流體通道(104)。進一步地,如圖1b和圖1c中所示,多個流體通道。連云港絮流片空氣凈化