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五、按用途分類(lèi):集成電路按用途可分為電視機(jī)用集成電路、音響用集成電路、影碟機(jī)用集成電路、錄像機(jī)用集成電路、電腦(微機(jī))用集成電路、電子琴用集成電路、通信用集成電路、照相機(jī)用集成電路、遙控集成電路、語(yǔ)言集成電路、報(bào)警器用集成電路及各種**集成電路。集成電路(IC)芯片在封裝工序之后,必須要經(jīng)過(guò)嚴(yán)格地檢測(cè)才能保證產(chǎn)品的質(zhì)量,芯片外觀檢測(cè)是一項(xiàng)必不可少的重要環(huán)節(jié),它直接影響到 IC 產(chǎn)品的質(zhì)量及后續(xù)生產(chǎn)環(huán)節(jié)的順利進(jìn)行。光刻工藝的基本流程如圖1 [2]所示。首先是在晶圓(或襯底)表面涂上一層光刻膠并烘干。嘉定區(qū)加工電阻芯片生產(chǎn)企業(yè)
相關(guān)政策2020年8月,***印發(fā)《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》,讓本已十分火熱的國(guó)產(chǎn)芯片行業(yè)再添重磅利好。 [3]據(jù)美國(guó)消費(fèi)者新聞與商業(yè)頻道網(wǎng)站8月10日?qǐng)?bào)道,中國(guó)公布一系列政策來(lái)幫助提振國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)。大部分激勵(lì)措施的焦點(diǎn)是減稅。例如,經(jīng)營(yíng)期在15年以上、生產(chǎn)的集成電路線寬小于28納米(含)的制造商將被免征長(zhǎng)達(dá)10年的企業(yè)所得稅。對(duì)于芯片制造商來(lái)說(shuō),優(yōu)惠期自獲利年度起計(jì)算。新政策還關(guān)注融資問(wèn)題,鼓勵(lì)公司在科創(chuàng)板等以科技股為主的證券交易板塊上市。 [4]奉賢區(qū)智能電阻芯片量大從優(yōu)集成電路可以把模擬和數(shù)字電路集成在一個(gè)單芯片上,以做出如模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器和數(shù)字模擬轉(zhuǎn)換器等器件。
模擬集成電路有,例如傳感器、電源控制電路和運(yùn)放,處理模擬信號(hào)。完成放大、濾波、解調(diào)、混頻的功能等。通過(guò)使用**所設(shè)計(jì)、具有良好特性的模擬集成電路,減輕了電路設(shè)計(jì)師的重?fù)?dān),不需凡事再由基礎(chǔ)的一個(gè)個(gè)晶體管處設(shè)計(jì)起。集成電路可以把模擬和數(shù)字電路集成在一個(gè)單芯片上,以做出如模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器和數(shù)字模擬轉(zhuǎn)換器等器件。這種電路提供更小的尺寸和更低的成本,但是對(duì)于信號(hào)***必須小心。 [1]參見(jiàn):半導(dǎo)體器件制造和集成電路設(shè)計(jì)從20世紀(jì)30年代開(kāi)始,元素周期表中的化學(xué)元素中的半導(dǎo)體被研究者如貝爾實(shí)驗(yàn)室的威廉·肖克利(William Shockley)認(rèn)為是固態(tài)真空管的**可能的原料。從氧化銅到鍺,再到硅,原料在20世紀(jì)40到50年代被系統(tǒng)的研究。盡管元素周期表的一些III-V價(jià)化合物如砷化鎵應(yīng)用于特殊用途如:發(fā)光二極管、激光、太陽(yáng)能電池和比較高速集成電路,單晶硅成為集成電路主流的基層。創(chuàng)造無(wú)缺陷晶體的方法用去了數(shù)十年的時(shí)間。
該過(guò)程使用了對(duì)紫外光敏感的化學(xué)物質(zhì),即遇紫外光則變軟。通過(guò)控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致抗蝕劑,使得其遇紫外光就會(huì)溶解。這時(shí)可以用上***份遮光物,使得紫外光直射的部分被溶解,這溶解部分接著可用溶劑將其沖走。這樣剩下的部分就與遮光物的形狀一樣了,而這效果正是我們所要的。這樣就得到我們所需要的二氧化硅層。摻加雜質(zhì)將晶圓中植入離子,生成相應(yīng)的P、N類(lèi)半導(dǎo)體。具體工藝是從硅片上暴露的區(qū)域開(kāi)始,放入化學(xué)離子混合液中。這一工藝將改變攙雜區(qū)的導(dǎo)電方式,使每個(gè)晶體管可以通、斷、或攜帶數(shù)據(jù)。簡(jiǎn)單的芯片可以只用一層,但復(fù)雜的芯片通常有很多層,這時(shí)候?qū)⒃摿鞒滩粩嗟闹貜?fù),不同層可通過(guò)開(kāi)啟窗口聯(lián)接起來(lái)。這一點(diǎn)類(lèi)似多層PCB板的制作原理。 更為復(fù)雜的芯片可能需要多個(gè)二氧化硅層,這時(shí)候通過(guò)重復(fù)光刻以及上面流程來(lái)實(shí)現(xiàn),形成一個(gè)立體的結(jié)構(gòu)。更為少見(jiàn)的電感結(jié)構(gòu),可以制作芯片載電感或由回旋器模擬。
集成電路芯片的硬件缺陷通常是指芯片在物理上所表現(xiàn)出來(lái)的不完善性。集成電路故障(Fault)是指由集成電路缺陷而導(dǎo)致的電路邏輯功能錯(cuò)誤或電路異常操作。導(dǎo)致集成電路芯片出現(xiàn)故障的常見(jiàn)因素有元器件參數(shù)發(fā)生改變致使性能極速下降、元器件接觸不良、信號(hào)線發(fā)生故障、設(shè)備工作環(huán)境惡劣導(dǎo)致設(shè)備無(wú)法工作等等。電路故障可以分為硬故障和軟故障。軟故障是暫時(shí)的,并不會(huì)對(duì)芯片電路造成長(zhǎng)久性的損壞。它通常隨機(jī)出現(xiàn),致使芯片時(shí)而正常工作時(shí)而出現(xiàn)異常。在處理這類(lèi)故障時(shí),只需要在故障出現(xiàn)時(shí)用相同的配置參數(shù)對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行重新配置,就可以使設(shè)備恢復(fù)正常。而硬故障給電路帶來(lái)的損壞如果不經(jīng)維修便是長(zhǎng)久性且不可自行恢復(fù)的。GLSI(英文全名為Giga Scale Integration)邏輯門(mén)1,000,001個(gè)以上或晶體管10,000,001個(gè)以上。徐匯區(qū)智能電阻芯片生產(chǎn)企業(yè)
小型集成電路(SSI英文全名為Small Scale Integration)邏輯門(mén)10個(gè)以下或晶體管100個(gè)以下。嘉定區(qū)加工電阻芯片生產(chǎn)企業(yè)
一、根據(jù)一個(gè)芯片上集成的微電子器件的數(shù)量,集成電路可以分為以下幾類(lèi):小型集成電路(SSI英文全名為Small Scale Integration)邏輯門(mén)10個(gè)以下或 晶體管100個(gè)以下。中型集成電路(MSI英文全名為Medium Scale Integration)邏輯門(mén)11~100個(gè)或 晶體管101~1k個(gè)。大規(guī)模集成電路(LSI英文全名為L(zhǎng)arge Scale Integration)邏輯門(mén)101~1k個(gè)或 晶體管1,001~10k個(gè)。超大規(guī)模集成電路(VLSI英文全名為Very large scale integration)邏輯門(mén)1,001~10k個(gè)或 晶體管10,001~100k個(gè)。嘉定區(qū)加工電阻芯片生產(chǎn)企業(yè)
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